[나노화공]삼성전자, 10나노급 낸드플래시 넘어 V낸드
지금까지는 수평구조로만 만들던 2차원 셀을 3차원 수직구조로 쌓아올려 평면구조에 비해 집적도를 획기적으로 높인 기술이라고 합니다.10나노 공정 기술을 이용한 낸드플래시 메모리를 생산하는 단계를 건너뛰고 바로 3차원 낸드 플래시를 생산하게 된다고 ...
[나노화공]삼성전자, 10나노급 낸드플래시 넘어 V낸드
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